Neue Wege in der Lithographie

Anfang September besuchten Doktoranden des SNI zusammen mit Wissenschaftlern vom Paul Scherrer Institute die Firma SwissLitho im Technopark Zürich. SwissLitho demonstrierte den Besucherinnen und Besuchern zunächst ihre Nanofrazer-Technologie. Die Technologie nutzt eine aufheizbare Rastersonde (t-SPL für thermal scanning probe lithography), um hochpräzise Nanostrukturen herzustellen und gleichzeitig zu charakterisieren.

Das Gruppenfoto wurde mithilfe der Mix-and-Match-Technologie in Minutenschnelle in eine dreidimensionale Mikro- und Nanostruktur umgewandelt. (Bilder: Thomas Mortelmans)

Die Doktoranden erlebten bei dem Besuch dann eine Premiere, da eine Mitarbeiterin von SwissLitho zum ersten Mal die neue Mix-and-Match-Technologie vorstellte. Hierbei wird die t-SPL des Nanofrazers mit einem Laser-Lithographiesystem von Heidelberg Instruments (Deutschland) kombiniert. Diese Hybridtechnologie beschleunigt die Herstellung von Bauteilen, die sowohl Mikro- wie auch Nanostrukturen besitzen. «Wir haben das anschaulich demonstriert bekommen, indem ein Gruppenfoto von uns innerhalb von Minuten in ein dreidimensionales Muster umgewandelt wurde», berichtet der Doktorand Thomas Mortelmans, der den Besuch bei SwissLitho organisiert hatte.

Weitere Information: SwissLitho